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Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization

Lingua IngleseInglese
Libro Rigido
Libro Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization Jea-Gun Park
Codice Libristo: 06708211
Casa editrice Taylor & Francis Inc, febbraio 2009
Explains the physicochemical properties of nanoparticles according to each step in the chemical mech... Descrizione completa
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Explains the physicochemical properties of nanoparticles according to each step in the chemical mechanical planarization (CMP) process, including dielectric CMP, shallow trend isolation CMP, metal CMP, poly isolation CMP and noble metal CMP. This work also presents design techniques using polymeric additives to improve CMP performance.

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Informazioni sul libro

Titolo completo Nanoparticle Engineering for Chemical-Mechanical Planarization
Autore Jea-Gun Park
Lingua Inglese
Rilegatura Libro - Rigido
Data di pubblicazione 2009
Numero di pagine 224
EAN 9781420059113
ISBN 9781420059113
Codice Libristo 06708211
Casa editrice Taylor & Francis Inc
Peso 570
Dimensioni 156 x 234 x 20
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