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Atomic Layer Deposition for Semiconductors

Lingua IngleseInglese
Libro Rigido
Libro Atomic Layer Deposition for Semiconductors Cheol Seong Hwang
Codice Libristo: 01428994
Casa editrice Springer-Verlag New York Inc., ottobre 2013
This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, mov...
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This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines.

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Informazioni sul libro

Titolo completo Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Autore Cheol Seong Hwang
Lingua Inglese
Rilegatura Libro - Rigido
Data di pubblicazione 2013
Numero di pagine 263
EAN 9781461480532
ISBN 1461480531
Codice Libristo 01428994
Casa editrice Springer-Verlag New York Inc.
Peso 5384
Dimensioni 155 x 235 x 19

Categorie

Matematica e Scienze > Chimica > Chimica fisica > Elettrochimica e magnetochimica
Tecnologia, Ingegneria, Agricoltura, processi industriali > Ingegneria elettronica e delle comunicazioni > Ingegneria elettronica > Dispositivi e materiali elettronici
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