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Atomic Layer Deposition for Semiconductors

Lingua IngleseInglese
Libro In brossura
Libro Atomic Layer Deposition for Semiconductors Cheol Seong Hwang
Codice Libristo: 13809644
Casa editrice Springer-Verlag New York Inc., agosto 2016
This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, mov...
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This edited volume discusses atomic layer deposition (ALD) for all modern semiconductor devices, moving from the basic chemistry of ALD and modeling of ALD processes to sections on ALD for memories, logic devices, and machines.

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Informazioni sul libro

Titolo completo Atomic Layer Deposition for Semiconductors
Autore Cheol Seong Hwang
Lingua Inglese
Rilegatura Libro - In brossura
Data di pubblicazione 2016
Numero di pagine 263
EAN 9781489979438
ISBN 1489979433
Codice Libristo 13809644
Casa editrice Springer-Verlag New York Inc.
Peso 482
Dimensioni 234 x 155 x 18

Categorie

Matematica e Scienze > Chimica > Chimica fisica > Elettrochimica e magnetochimica
Tecnologia, Ingegneria, Agricoltura, processi industriali > Ingegneria elettronica e delle comunicazioni > Ingegneria elettronica > Dispositivi e materiali elettronici
Informatica e Tecnologia dell’Informazione > Hardware informatico > Memorie di massa e periferiche
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