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Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Lingua IngleseInglese
Libro Rigido
Libro Atomic Layer Deposition Tommi Kaariainen
Codice Libristo: 04949772
Casa editrice John Wiley & Sons Inc, giugno 2013
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf... Descrizione completa
? points 548 b
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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

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Informazioni sul libro

Titolo completo Atomic Layer Deposition
Autore Tommi Kaariainen, David Cameron, Marja-Leena Kaariainen, Arthur Sherman
Lingua Inglese
Rilegatura Libro - Rigido
Data di pubblicazione 2013
Numero di pagine 272
EAN 9781118062777
ISBN 1118062779
Codice Libristo 04949772
Casa editrice John Wiley & Sons Inc
Peso 582
Dimensioni 240 x 164 x 25

Categorie

Tecnologia, Ingegneria, Agricoltura, processi industriali > Ingegneria meccanica e dei materiali > Scienza dei materiali > Applicazioni di finiture e pellicole superficiali in ingegneria
Tecnologia, Ingegneria, Agricoltura, processi industriali > Ingegneria elettronica e delle comunicazioni > Ingegneria elettronica > Dispositivi e materiali elettronici
Tecnologia, Ingegneria, Agricoltura, processi industriali > Tecnologia: argomenti di interesse generale > Nanotecnologia
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